「最先端半導体に対応...DNPが開発、回路線幅10㎚のテンプレート」 大日本印刷(DNP)は半導体の回路パターン形成に使用するナノインプリントリソグラフィー(NIL)向けに、1・4ナノメートル(ナノは10億分の1)世代相当のロジック半導体にも対応可能な回路線幅10ナノメートルのテンプレートを開発した。
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- Đã xuất bảnlúc 21:01 UTC 14 tháng 12, 2025
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