氫在半導體等先進製程是關鍵氣體，在製程中大量使用，例如 EUV、MOCVD 以及 silicon AP 三大製程都會用到氫氣；其中 EUV 的耗用量最大，一小時大約需要 40 到 50 立方米。然而，氫氣在製程中實際參與反應的不到 1%，也因此大約 99% 以上的剩餘氫氣會被排放掉。大量剩餘若外洩，4%～75% 濃度即可被極微小能量點燃爆炸，形成工安高風險。密閉空間、儲存區（如儲存 150 大氣壓氫氣的鋼瓶處） 尤需監測與主動消除。氫分子最小、易滲漏、比空氣輕而上飄，在室內天花板處累積最危險；一記鑰匙落地的火花，就可能成為引爆源。
鼎佳能源提出 DHC（除氫氣）解方：這是一個全球獨創的技術。在常溫、無外加電力條件下，利用觸媒讓氫與氧緩和反應為水蒸氣，持續把濃度壓低至安全範圍，避免進入燃爆區間；關鍵在於「能量緩釋、不可累積」。DHC 可作為雙重保險，除了偵測器外，當氫氣外洩時，它能先將現場濃度壓在爆炸下線以下，確保處理人員的安全。
今天，讓我們將走進產線端，深入看鼎佳能源如何把「除氫」與「回收」融入科技業製程，兼顧良率、能耗與安全。
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企劃 | 孫聖峰
製作 | 孫聖峰
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